Научный семинар НЦФМ о рентгеновских литографах
vk.com Научный семинар, посвящённый перспективам и проблемам создания российского EUV-литографа для микроэлектроники. Докладчик - один из ведущих специалистов, завотделом многослойной рентгеновской оптики ИФМ РАН Николай Чхало. В докладе рассказывается об вкладе российских ученых в разработку зарубежных EUV литографов, проблемах и наработках по созданию российского EUV литографа (источников излучения на основе ксенона, специальной высокоотражающей оптики и т.п.) #вотт_познавательный
[censored]
описание семинара:
[censored]
В НЦФМ прошёл научный семинар, посвящённый EUV-литографии и перспективам создания отечественного EUV-литографа для микроэлектроники
С инициативой о проведении семинара выступили магистранты образовательного ядра НЦФМ – Филиала МГУ в Сарове. Научный руководитель НЦФМ академик РАН Александр Сергеев отметил: «У нас учится много ребят, лазерщиков и плазменщиков, проходят занятия по лазерно-плазменной тематике, которая, на мой взгляд, является сегодня одной из определяющих в технологическом развитии – любые достижения или изменения в этой области оказывают существенное влияние на дальнейшее развитие науки и техники».
На семинаре с докладом выступил заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало. Он рассказал о проекте в EUV-литографии: «Нами предложен проект высокопроизводительного рентгеновского литографа для производства микросхем по передовым технологическим нормам на основе источника излучения с длиной волны 11,2 нм. У нас есть экспериментальные результаты, указывающие на перспективы создания такого источника излучения на основе ксенона. Под него была разработана оптика с высоким коэффициентом отражения – рутениево-бериллиевые зеркала. В составе зеркальной оптической схемы литографа она будет примерно в 1,5 раза эффективнее того, что создано в зарубежных компаниях».
Подробности о прошедшем семинаре читайте на сайте Росатома
[censored]