cnews.ru — В нижегородском Институте прикладной физики РАН разрабатывают первый отечественный литограф, который сможет выпускать чипы по топологии 7 нм. На данный момент учеными РАН создан первый демонстрационный образец оборудования. На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Полноценную работу оборудование может начать в 2028 г.

Новости, Наука | Славянин 17:11 23.10.2022

4 комментария | 147 за, 2 против |

Славянин »

#1 | 17:37 23.10.2022 | Кому: Pigsel

> DUV резисты

Зачем рентгеновской установке DUV резисты ?

Славянин »

#2 | 17:38 23.10.2022 | Кому: str

> Чую изнасилованного журналиста.

[censored]

Славянин »

#3 | 19:36 23.10.2022 | Кому: spitfire

> В современном процессоре, произведённом по технологии 7 нм, нет НИЧЕГО размером 7 нм

Сам транзистор, конечно, физически больше, но быстродействие полевого транзистора, определяется длиной канала, поэтому когда говорят о техпроцессе 7нм, то имеют ввиду длину канала, хотя сам полевик может быть (и есть) значительно больше.

Славянин »

#4 | 10:17 24.10.2022 | Кому: Злой

> Почитай, если интересно:[censored]

Спасибо, весьма познавательно !

Войдите или зарегистрируйтесь чтобы писать комментарии.

Логин
Пароль
	Запомнить

В РФ создаётся литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм