В РФ создаётся литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм
cnews.ru В нижегородском Институте прикладной физики РАН разрабатывают первый отечественный литограф, который сможет выпускать чипы по топологии 7 нм. На данный момент учеными РАН создан первый демонстрационный образец оборудования. На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Полноценную работу оборудование может начать в 2028 г.
В 2028 скажут, зачем нам какие-то 7 нм, лучше пойдем в прорыв, будем сразу 3 нм делать - к 2034 году, ну и так далее.