В РФ создаётся литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм

cnews.ru — В нижегородском Институте прикладной физики РАН разрабатывают первый отечественный литограф, который сможет выпускать чипы по топологии 7 нм. На данный момент учеными РАН создан первый демонстрационный образец оборудования. На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Полноценную работу оборудование может начать в 2028 г.